مشخصات فنی نانو پودر اکسید هافنیم سایز 61 تا 80 نانومتر
| متوسط اندازه ذرات | 50 نانومتر = (50% برابر 10nm) (25% بیشتر از 10nm) (25% کمتر از 10nm) و (1 درصد وزنی میتواند 40nm باشد) |
| خلوص | 99.99٪ |
| مورفولوژی | تقریباً کروی |
| ضریب شکست | 2 |
| رنگ | سفید |
| نقطه ذوب | 2812 درجه سانتیگراد |
| بازه عبور طیف شفاف | 0.2 تا 9 میکرومتر |
| چگالی | 9.7 g/cm³ |
| روش تولید | روش بخار شیمیایی در دمای بالا (با مواد مرطوب) |
| ساختار بلوری | مکعبی |
| آهن (Fe) | 12ppm |
| نیکل (Ni) | 9ppm |
| منگنز (Mn) | 1ppm |
| منیزیم (Mg) | 15ppm |
| آلومینیوم (Al) | <10ppm |
| تیتانیوم (Ti) | 10ppm |
| کروم (Cr) | <5ppm |
| مس (Cu) | 5ppm |
کاربردهای نانو ذرات اکسید هافنیم Nanoparticles (HfO2)
- واکنشپذیر با کلر در حضور گرافیت یا تتراکلریدکربن در دمای بالا
- جایگزین بالقوه دیاکسید سیلیکون در صنایع نیمهرسانا
- مواد سرامیکی با شکاف انرژی بالا و ثابت دیالکتریک زیاد
- پوششهای اپتیکی با مقاومت حرارتی بالا
- دیالکتریک با ثابت بالا در خازنهای DRAM
- استفاده در مدارهای مجتمع نسل آینده
- ماده نسوز در دماهای بسیار بالا
- عایق الکتریکی با شکاف باند ~6 eV
- پیشماده در تولید فلز هافنیم
- نسبتاً غیرفعال و مقاوم در برابر خوردگی
- واکنشپذیر با اسید سولفوریک غلیظ و بازهای قوی
- حلشونده آهسته در اسید هیدروفلوئوریک
- ساخت خازنهای DRAM با دیالکتریک بالا
- بهعنوان عایق الکتریکی در مدارهای پیشرفته
- استفاده در نیمهرساناها بهجای SiO₂
- استفاده در سیستمهای ذخیرهسازی داده
- کاربرد در حسگرهای UV و دستگاههای فوتوالکترونیک
- تقویت پایداری حرارتی و شیمیایی در ترکیبات
- ساخت مواد سرامیکی مقاوم به حرارت بالا
- پوشش محافظ در صنایع هوافضا
- بهعنوان ماده نسوز در صنایع متالورژی
- استفاده در سلولهای خورشیدی لایه نازک
- تولید حسگرهای گازی با حساسیت بالا
تصویر میکروسکوپی نانو پودر اکسید هافنیم سایز 61 تا 80 نانومتر
نمودار X_RAY
محصولات مرتبط
-
نانو اکسید هانانو پودر هیدروکسید ایندیوم سایز 20 تا 70 نانومتر، خلوص: 99.99%
57,000,000 تومان انتخاب گزینه ها این محصول دارای انواع مختلفی می باشد. گزینه ها ممکن است در صفحه محصول انتخاب شوند
دیدگاهها
هیچ دیدگاهی برای این محصول نوشته نشده است.